第九届电介质材料性能与应用国际会议在哈尔滨理工大学举行。东北网记者 印蕾摄

　　东北网7月20日讯(记者 印蕾)第九届电介质材料性能与应用国际会议(ICPADM 2009)20日在哈尔滨理工大学开幕，来自30个国家和地区的专家学者等250余人参加了会议。会议旨在为全球范围电介质材料性能与应用领域内的专家学者搭建学术交流与沟通的平台，不断拓宽世界电解质性能与应用的研究领域。

　　在当日上午举行的全体会议上，ICPADM 2009国际会议组织委员会主席、中国工程院院士、哈尔滨理工大学教授雷清泉代表ICPADM 2009国际会议组织委员会致欢迎词，并发表了题为“纳米电介质结构与运动的时空多层次型”的主题报告。来自法国、日本、美国等国家的专家学者做了专题报告。

　　ICPADM在全球电介质性能与应用研究领域有着广泛的影响力，是全球电介质研究领域内三大会议之一，每三年举办一届。第一届和第二届会议分别于上世纪80年代在我国西安交通大学和清华大学举行。ICPADM 2009是由美国IEEE电介质与电绝缘协会(IEEE DEIS)主办，中国电工技术学会、中国电机工程学会技术支持，哈尔滨理工大学承办。本次会议共收到来自全球19个国家和地区，涵盖12个专业议题的310多篇学术论文。会议收到的稿件数量和质量以及出席会议人数均创历届ICPADM国际会议最高。